技術資源
離子注入高壓電源多級動態(tài)補償網(wǎng)絡的技術特性與應用價值
在半導體先進制程中，離子注入技術是實現(xiàn)精準摻雜的核心工藝，其對摻雜劑量均勻性、雜質深度控制的嚴苛要求，直接依賴于高壓電源的輸出穩(wěn)定
靜電卡盤高壓電源介質界面陷阱效應抑制的技術應用與實踐
在半導體制造向7nm及以下先進工藝節(jié)點演進的過程中，靜電卡盤（ESC）作為晶圓夾持與精準定位的核心組件，其性能穩(wěn)定性直接決定光刻、刻蝕等
曝光機高壓電源的寬溫域適應性設計與應用價值
在半導體制造及精密電子加工領域，曝光機是實現(xiàn)圖形轉移的核心設備，其工作精度直接決定了產(chǎn)品的線寬與性能。而高壓電源作為曝光機光學系統(tǒng)
電子束高壓電源故障預警系統(tǒng)的技術架構與應用價值
電子束技術在工業(yè)輻照、半導體離子注入、材料改性等領域的深度應用，使其核心動力源——電子束高壓電源的穩(wěn)定運行成為生產(chǎn)連續(xù)性與工藝精度
光刻機高壓電源的超導儲能脈沖供電技術應用分析
在半導體制造領域，光刻機作為先進制程突破的核心設備，其曝光系統(tǒng)對供電的精準度、響應速度及穩(wěn)定性提出了苛刻要求。尤其是7nm以下制程中