技術(shù)資源
高壓電源在蝕刻設(shè)備中的工藝參數(shù)自整定技術(shù)發(fā)展
在半導(dǎo)體制造中，等離子體刻蝕的精度直接決定芯片微觀結(jié)構(gòu)的成形質(zhì)量。高壓電源作為等離子體的能量來(lái)源，其工藝參數(shù)的實(shí)時(shí)自整定能力已成為
準(zhǔn)分子激光高壓電源光學(xué)同步觸發(fā)技術(shù)的應(yīng)用與突破
準(zhǔn)分子激光器（如ArF、KrF等）作為深紫外波段的高功率脈沖光源，在半導(dǎo)體光刻、微納加工、醫(yī)療等領(lǐng)域具有不可替代的地位。其性能核心依賴于
光刻機(jī)高壓電源的電磁脈沖防護(hù)：技術(shù)挑戰(zhàn)與創(chuàng)新方案
在高端光刻機(jī)中，高壓電源（通常需穩(wěn)定輸出數(shù)千至數(shù)萬(wàn)伏直流電壓）的穩(wěn)定性直接決定曝光精度。然而，電磁脈沖（EMP）的瞬態(tài)干擾（上升時(shí)間
高壓電源在曝光機(jī)中的效率提升研究
曝光機(jī)是半導(dǎo)體制造和精密光刻的核心設(shè)備，其成像質(zhì)量直接依賴于高壓電源的穩(wěn)定性和效率。傳統(tǒng)高壓電源存在能耗高、熱損耗大、體積笨重等問(wèn)
電子束高壓電源紋波抑制技術(shù)
在電子束焊接、精密熔煉及真空鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域，高壓電源的紋波系數(shù)直接決定了工藝質(zhì)量。紋波（輸出電壓中的交流脈動(dòng)成分）會(huì)引發(fā)電子束軌跡
高壓電源小型化在曝光機(jī)中的技術(shù)路徑與應(yīng)用展望
曝光機(jī)作為半導(dǎo)體、平板顯示制造的核心設(shè)備，其精度直接決定芯片制程與顯示面板的分辨率。高壓電源作為曝光機(jī)的關(guān)鍵子系統(tǒng)，負(fù)責(zé)驅(qū)動(dòng)光源和
電子束高壓電源過(guò)流保護(hù)設(shè)計(jì)的關(guān)鍵技術(shù)與應(yīng)用
電子束高壓電源廣泛應(yīng)用于工業(yè)加工、醫(yī)療設(shè)備及科研裝置中，其核心需求是在高電壓（通常數(shù)千至數(shù)萬(wàn)伏）、大電流脈沖場(chǎng)景下保持穩(wěn)定運(yùn)行。然
曝光機(jī)高壓電源動(dòng)態(tài)響應(yīng)優(yōu)化技術(shù)研究
在微電子制造、光伏面板生產(chǎn)和精密顯示器件加工中，曝光機(jī)是光刻工藝的核心設(shè)備，其成像質(zhì)量直接決定產(chǎn)品良率。高壓電源作為曝光機(jī)的關(guān)鍵子
電子束高壓電源負(fù)載適配研究
電子束加工技術(shù)（如焊接、切割、熱處理及增材制造）的核心在于高壓電源的負(fù)載適配能力。電子束設(shè)備的加工對(duì)象涵蓋金屬、半導(dǎo)體、陶瓷等多樣