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高壓電源模塊化設計在曝光機中的應用演進

曝光機作為半導體制造的核心設備，其圖形轉移精度直接決定芯片的線寬與良率。高壓電源作為曝光機的能量心臟，需為電子束或離子束生成系統(tǒng)提

電子束設備高壓電源噪聲抑制技術研究

電子束設備（如電子束熔煉爐、電子束鍍膜系統(tǒng)等）依賴高壓電源提供穩(wěn)定的加速電場，其性能直接影響材料加工精度與設備可靠性。然而，高壓電

曝光機高壓電源能效提升方案

在微電子、光伏及印刷電路板制造領域，曝光機是實現精密圖形轉移的核心設備，其高壓電源系統(tǒng)（通常工作于數十千伏范圍）的能效直接影響生產

電子束曝光機高壓電源穩(wěn)壓技術及應用

電子束曝光機作為納米級圖形加工的核心裝備，其制版精度直接取決于高壓電源的穩(wěn)定性。高壓電源為電子槍提供加速電壓（通常為20–30 k

高壓電源量子噪聲抑制技術及其在電鏡領域的應用

電子顯微鏡（電鏡）的分辨率與成像質量高度依賴高壓電源的穩(wěn)定性。高壓電源為電鏡的電子槍提供加速電壓（通常達數十至數百千伏），其輸出噪

高精度蝕刻設備中高壓電源動態(tài)匹配網絡的技術演進與應用

在半導體制造領域，蝕刻設備的性能直接決定了芯片結構的精度與良率。隨著制程節(jié)點向5nm以下演進，晶圓尺寸增至12英寸，蝕刻工藝對高壓電源

準分子激光高壓電源的脈沖能量反饋控制技術

準分子激光器（如ArF、KrF、XeCl等）作為深紫外波段的高功率脈沖光源，在半導體光刻、醫(yī)療美容、微納加工等領域具有不可替代的地位。其核心

光刻機高壓電源多物理場協(xié)同仿真技術研究

在半導體制造領域，光刻機的精度直接決定芯片的制程水平。高壓電源作為光刻機的核心子系統(tǒng)，為電子束偏轉系統(tǒng)、離子光學單元及精密伺服機構

離子注入高壓電源能量利用率優(yōu)化路徑探析

離子注入技術作為半導體制造、材料改性的核心工藝，其能量利用率直接影響制造成本與設備性能。高壓電源作為離子注入系統(tǒng)的心臟，為離子加速